台積電：2奈米2025年量產 強化版3奈米明年量產

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台積電北美技術論壇於美國加州聖塔克拉拉市舉行，共計超過 1,600 名客戶及合作夥伴報名參與，為接下來幾個月陸續登場的全球技術論壇揭開序幕。現場也設置創新專區，展示 18 家新興客戶的創新技術。

台積電總裁魏哲家出席論壇，他說，客戶從未停止尋找新方法，利用晶片的力量為世界帶來令人驚歎的創新，並創造更美好的未來。憑藉著相同的精神，台積電也持續成長進步，加強並推進製程技術，提高效能、功耗效率及功能性，協助客戶在未來持續釋放更多的創新。

台積電最新製程技術亮相：2 奈米、新 3 奈米及 3DFabric 等成果

台積電會中揭示最新技術發展情況，包括 2 奈米製程技術進展、新 3 奈米製程技術、3DFabric 先進封裝及矽晶堆疊的系統整合技術等。

台積電指出，2 奈米製程技術開發進展良好。2 奈米技術採用奈米片電晶體架構，在良率與元件效能上皆展現良好的進展，將如期於 2025 年量產。

相較於升級版 3 奈米（N3E）製程技術，2 奈米在相同功耗下，速度最快將可增加 15%；在相同速度下，功耗最多可降低30%，同時晶片密度增加逾 15%。

隨著 3 奈米製程已進入量產，N3E 製程預計於 2023 年量產，台積電進一步推出更多 3 奈米技術以滿足客戶多樣化的需求。

台積電表示，支援更佳功耗、效能與密度的強化版 3 奈米（N3P）預計於 2024 年下半年進入量產，相較於 N3E 製程，在相同功耗下，速度增快 5%；在相同速度下，功耗降低 5% 至10%，晶片密度增加 4%。

N3X 製程是為高效能運算應用量身打造，著重於效能與最大時脈頻率，相較於 N3P 製程，在驅動電壓 1.2 伏特下，速度增快5%，並擁有相同的晶片密度提升幅度，預計於 2025 年進入量產。

N3AE 製程：滿足汽車應用設計需求

為讓客戶能夠提早採用 3 奈米技術來設計汽車應用產品，以便於 2025 年及時採用屆時已全面通過汽車製程驗證的 N3A 製程，台積電預計 2023 年推出 N3AE，提供以 N3E 為基礎的汽車製程設計套件（PDK）。

在互補式金屬氧化物半導體（CMOS）射頻技術，台積電新推出 N4PRF，支援 WiFi7 射頻系統單晶片等數位密集型的射頻應用。相較於 2021 年推出的 N6RF 技術，N4PRF 邏輯密度增加77%，且在相同速度下，功耗降低 45%。

先進封裝技術：滿足高效能運算需求

先進封裝方面，為了滿足高效能運算應用在單一封裝中置入更多處理器及記憶體的需求，台積電正在開發具有高達 6 個光罩尺寸（約 5,000 平方毫米）重布線層（RDL）中介層的 CoWoS 解決方案，能夠容納 12 個高頻寬記憶體堆疊。

三維晶片堆疊部分，台積電推出 SoIC-P，作為系統整合晶片（SoIC）解決方案的微凸塊版本，提供具有成本效益的方式來進行 3D 晶片堆疊，SoIC-P 加上目前的 SoIC-X 無凸塊解決方案，將使台積電的 3D IC 技術更加完善。

有關設計支援，台積電推出開放式標準設計語言的最新版本3Dblox 1.5，旨在降低三維積體電路（3D IC）的設計門檻。3Dblox 1.5 增加了自動凸塊合成的功能，協助晶片設計人員處理具有數千個凸塊的複雜大型晶片，可縮短數個月的設計時程。

責任編輯：陳涵書

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